TY  - JOUR
AU  - Schöner, Sandro
AU  - Schmidt, Dana
AU  - Chen, Xinchang
AU  - Dzieciol, Krzysztof
AU  - Schierholz, Roland
AU  - Cao, Pengfei
AU  - Ghamlouche, Ahmad
AU  - Jeschull, Fabian
AU  - Windmüller, Anna
AU  - Tsai, Chih-Long
AU  - Liao, Xunfan
AU  - Kungl, Hans
AU  - Zhong, Gui-Ming
AU  - Chen, Yiwang
AU  - Tempel, Hermann
AU  - Yu, Shicheng
AU  - Eichel, Rüdiger-A.
TI  - Chemical Prelithiated 3D Lithiophilic/-Phobic Interlayer Enables Long-Term Li Plating/Stripping
JO  - ACS nano
VL  - 18
IS  - 27
SN  - 1936-0851
CY  - Washington, DC
PB  - Soc.
M1  - FZJ-2024-04950
SP  - 17924 - 17938
PY  - 2024
LB  - PUB:(DE-HGF)16
C6  - 38937963
UR  - <Go to ISI:>//WOS:001259895700001
DO  - DOI:10.1021/acsnano.4c04507
UR  - https://juser.fz-juelich.de/record/1029089
ER  -