TY  - JOUR
AU  - Hofmann, Jonathan K.
AU  - Jeon, Hoyeon
AU  - Hus, Saban M.
AU  - Zhang, Yuqi
AU  - Zheng, Mingqian
AU  - Wichmann, Tobias
AU  - Li, An-Ping
AU  - Zhou, Jin-Jian
AU  - Wang, Zhiwei
AU  - Yao, Yugui
AU  - Voigtländer, Bert
AU  - Tautz, F. Stefan
AU  - Lüpke, Felix
TI  - Shear-resistant topology in the quasi-one-dimensional van der Waals material Bi 4 Br 4
JO  - Physical review / B
VL  - 111
IS  - 24
SN  - 2469-9950
CY  - Woodbury, NY
PB  - Inst.
M1  - FZJ-2025-02821
SP  - 245415
PY  - 2025
LB  - PUB:(DE-HGF)16
UR  - <Go to ISI:>//WOS:001511202400002
DO  - DOI:10.1103/tdp5-wmqc
UR  - https://juser.fz-juelich.de/record/1043295
ER  -