%0 Patent
%A Fischer, Benedikt
%A Nuys, Maurice
%A Schaaf, Michael
%T Dünnschichten aus Silizium hergestellt durch CVD mittels Flüssigsilanen mit einstellbarem Kohlenstoffgehalt
%M FZJ-2025-03069
%@ DE102023118799A1
%D 2025
%F PUB:(DE-HGF)23
%9 Patent
%N DE 102023118799
%U https://juser.fz-juelich.de/record/1044180