Note: Das Projekt hat die Installation einer maskenlosen optischen Lithographie im DFG-Gerätezentrum Kieler Nanolabor zum Ziel. Diese wird durch einen LASER-Belichter realisiert, der durch die Bestückung mit zwei UV-Quellen der Wellenlängen 375 nm und 405 nm größtmögliche Flexibilität hinsichtlich der zu belichtenden Lacke bietet. Mit dem LASER-Belichter werden Strukturauflösungen bis in den 300 nm Größenbereich sowie graustufenlithographische Anwendungen möglich. Anwendung findet der LASER-Belichter in mehr als 20 wissenschaftlichen Projekten u.a. zur Erzeugung von Oberflächenwellensensoren mit Mittenfrequenzen im GHz-Bereich, memristiven Bauelementen für neuromorphe Systeme, sowie 2.5-dimensionalen mikrofluidischen Systemen für Lab on Chip-Geräte als auch periodischen magnetischen Strukturen im Submikrometerbereich für die Erforschung magnonischer Strukturen.
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Record created 2025-09-17, last modified 2025-11-13
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