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Talk (non conference) (Invited) PreJuSER-112049
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Planar and Nanowire Schottky Barrier MOSFETs on SOI with NiSi and Epitaxial NiSi2 Contacts

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2012

12th International Workshop on Junction Technology (IWJT-2012)
Seminar, Shanghai, ChinaShanghai, China, 14 May 20122012-05-14


Note: Record converted from VDB: 16.11.2012
Contributing Institute(s):
  1. Halbleiter-Nanoelektronik (PGI-9)
  2. Jülich-Aachen Research Alliance - Fundamentals of Future Information Technology (JARA-FIT)
  3. Bioelektronik (PGI-8)
Research Program(s):
  1. Grundlagen für zukünftige Informationstechnologien (P42)

Appears in the scientific report 2012
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The record appears in these collections:
Dokumenttypen > Präsentationen > Vorträge (nicht Konferenz)
JARA > JARA > JARA-JARA\-FIT
Institutssammlungen > PGI > PGI-9
Workflowsammlungen > Öffentliche Einträge
Publikationsdatenbank
PGI-8
 Datensatz erzeugt am 2012-11-16, letzte Änderung am 2018-02-11
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