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Etching Titanium Nitride gate stacked on high-k dielectric

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2010

36th international Conference on Micro & Nano Engineering MNE2010
Seminar, Genoa, ItalyGenoa, Italy, 19 Sep 20102010-09-19


Note: Record converted from VDB: 12.11.2012
Contributing Institute(s):
  1. Halbleiter-Nanoelektronik (IBN-1)
  2. Jülich-Aachen Research Alliance - Fundamentals of Future Information Technology (JARA-FIT)
Research Program(s):
  1. Grundlagen für zukünftige Informationstechnologien (P42)

Appears in the scientific report 2010
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The record appears in these collections:
Dokumenttypen > Präsentationen > Poster
JARA > JARA > JARA-JARA\-FIT
Institutssammlungen > PGI > PGI-9
Workflowsammlungen > Öffentliche Einträge
Publikationsdatenbank
 Datensatz erzeugt am 2012-11-13, letzte Änderung am 2018-02-08
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