%0 Thesis
%A Luong, Gia Vinh
%T Laser Annealing for shallow junction formation in As and B implanted Si0.64Ge0.36 layers
%I TU Dortmund
%V Dipl.
%M FZJ-2013-01888
%P 94 S.
%D 2012
%Z TU Dortmund, Diplomarbeit, 2012
%K Unveröffentlichte Hochschulschrift (GND)
%F PUB:(DE-HGF)10
%9 Diploma Thesis
%U https://juser.fz-juelich.de/record/133440