TY  - THES
AU  - Luong, Gia Vinh
TI  - Laser Annealing for shallow junction formation in As and B implanted Si0.64Ge0.36 layers
PB  - TU Dortmund
VL  - Dipl.
M1  - FZJ-2013-01888
SP  - 94 S.
PY  - 2012
N1  - TU Dortmund, Diplomarbeit, 2012
KW  - Unveröffentlichte Hochschulschrift (GND)
LB  - PUB:(DE-HGF)10
UR  - https://juser.fz-juelich.de/record/133440
ER  -