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@MASTERSTHESIS{Schffmann:190008,
      author       = {Schöffmann, Patrick},
      title        = {{U}ntersuchung von dünnen {O}xidschichten mit dem
                      {R}asterkraftmikroskop},
      school       = {TUM},
      type         = {BA},
      reportid     = {FZJ-2015-02971},
      pages        = {75 p.},
      year         = {2014},
      note         = {TUM, Bachelorarbeit, 2014},
      abstract     = {Dünne Oxidschichten in Perowskitstruktur sind ein
                      hochaktuelles Forschungsgebiet, da sie in vielen
                      verschiedenen Bereichen, wie z.B. der Halbleiterforschung
                      Anwendung finden. Besonders in der Perowskit-basierten
                      Photovoltaik wurden in den letzten Jahren große
                      Fortschritte erzielt [1]. So ist die Effizienz von
                      Solarzellen auf Perowskitbasis in nur fünf Jahren von $4\%$
                      auf $18\%$ angestiegen [2].Auch auf dem Gebiet der
                      intensitätsstarken Leuchtdioden sind Perowskite ein sehr
                      aktueller Forschungsgegenstand. Anfang August wurde ein
                      Artikel von Tan et al. veröffentlicht, in dem LEDs mit
                      einem Perowskit-Emitter vorgestellt werden[3].Um jedoch
                      Vielfachschichtsysteme, wie die aufgeführten Beispiele, aus
                      Oxiden wachsen zu können, müssen die einzelnen Schichten
                      glatt abgeschlossen sein, da sich ansonsten die Rauigkeiten
                      der unteren Schichten auf die Folgeschichten auswirken und
                      diese noch rauer werden würden. Deswegen ist es wichtig die
                      Oberflächenstruktur der Schichten zu analysieren. Das Ziel
                      dieser Arbeit ist die Untersuchung von dünnen
                      Lanthan-Strontium-Manganat-Schichten. Dies geschieht durch
                      die Charakterisierung der Oberflächen mit Hilfe der
                      Rasterkraftmikroskopie, sowie unterstützend durch
                      Röntgenreflektometrie zur Ermittlung der Schichtdicke und
                      zum Vergleich der Rauigkeiten.Es wird erforscht, welchen
                      Einfluss der Sauerstoffdruck bei der
                      Hochdrucksputterdeposition auf die Oberfläche der Proben
                      hat. Außerdem werden Proben, die per
                      Molekularstrahlepitaxie hergestellt wurden, auf die
                      Abhängigkeit der Probenoberfläche von der Stöchiometrie
                      untersucht.Dafür werden Reinigungsmethoden für die ein
                      Jahr alten Sputterproben getestet um gute
                      Rasterkraftmikroskopieaufnahmen zu erstellen. Außerdem
                      werden potentielle Fehlerquellen bei AFM-Messungen
                      diskutiert.[1] Akihiro Kojima et al., Journal of the
                      American Chemical Society, 131, 6050 (2009)[2]
                      $http://www.nrel.gov/ncpv/images/efficiency_chart.jpg$ [3]
                      Zhi-Kuang Tan et al., Nature Nanotechnology 9, 687–692
                      (2014)},
      keywords     = {Unveröffentlichte Hochschulschrift (GND)},
      cin          = {JCNS (München) ; Jülich Centre for Neutron Science JCNS
                      (München) ; JCNS-FRM-II / JCNS-2},
      cid          = {I:(DE-Juel1)JCNS-FRM-II-20110218 /
                      I:(DE-Juel1)JCNS-2-20110106},
      pnm          = {54G - JCNS (POF2-54G24)},
      pid          = {G:(DE-HGF)POF2-54G24},
      experiment   = {EXP:(DE-MLZ)NOSPEC-20140101},
      typ          = {PUB:(DE-HGF)2},
      url          = {https://juser.fz-juelich.de/record/190008},
}