Hauptseite > Publikationsdatenbank > Parameter Study of HfOx-based ReRAM
 
http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png
Parameter Study of HfOx-based ReRAM

 ;  ;  ;  ;  ;

2015

Nanoelectronics Days, JülichJülich, Germany, 27 Apr 2015 - 30 Apr 20152015-04-272015-04-30

Contributing Institute(s):
  1. Elektronische Materialien (PGI-7)
Research Program(s):
  1. 521 - Controlling Electron Charge-Based Phenomena (POF3-521) (POF3-521)

Appears in the scientific report 2015
Database coverage:
No Authors Fulltext
Click to display QR Code for this record

The record appears in these collections:
Dokumenttypen > Präsentationen > Poster
Institutssammlungen > PGI > PGI-7
Workflowsammlungen > Öffentliche Einträge
Publikationsdatenbank
 Datensatz erzeugt am 2016-01-18, letzte Änderung am 2021-01-29
Ähnliche Datensätze



Dieses Dokument bewerten:

Rate this document:
1
2
3
4
5
 
(Bisher nicht rezensiert)
JuSER :: Suchen :: Absenden :: Personalisieren :: Hilfe
Powered by Invenio v1.1.7 | join2_v2508a
Verwaltet von juser@fz-juelich.de

Impressum | Data Privacy Policy
Diese Seite gibt es auch in den folgenden Sprachen:
Deutsch  English