000028621 001__ 28621
000028621 005__ 20180210144032.0
000028621 0247_ $$2ISSN$$a0734-211X
000028621 037__ $$aPreJuSER-28621
000028621 082__ $$a530
000028621 1001_ $$0P:(DE-Juel1)VDB18785$$aPavlovska, A.$$b0$$uFZJ
000028621 245__ $$aA low energy electron microscopy study of In on Si(111)
000028621 260__ $$aNew York, NY$$bInst.$$c2002
000028621 300__ $$a2478 - 2491
000028621 3367_ $$0PUB:(DE-HGF)16$$2PUB:(DE-HGF)$$aJournal Article
000028621 3367_ $$2DataCite$$aOutput Types/Journal article
000028621 3367_ $$00$$2EndNote$$aJournal Article
000028621 3367_ $$2BibTeX$$aARTICLE
000028621 3367_ $$2ORCID$$aJOURNAL_ARTICLE
000028621 3367_ $$2DRIVER$$aarticle
000028621 440_0 $$03988$$aJournal of Vacuum Science and Technology B$$v20$$x0734-211X
000028621 500__ $$aRecord converted from VDB: 12.11.2012
000028621 536__ $$0G:(DE-Juel1)FUEK242$$2G:(DE-HGF)$$aKondensierte Materie$$cM02$$x0
000028621 7001_ $$0P:(DE-Juel1)VDB18786$$aBauer, E.$$b1$$uFZJ
000028621 7001_ $$0P:(DE-Juel1)4744$$aGiesen, M.$$b2$$uFZJ
000028621 773__ $$0PERI:(DE-600)1475429-0$$gVol. 20, p. 2478 - 2491$$p2478 - 2491$$q20<2478 - 2491$$tJournal of vacuum science & technology / B$$v20$$x0734-211X$$y2002
000028621 909CO $$ooai:juser.fz-juelich.de:28621$$pVDB
000028621 9131_ $$0G:(DE-Juel1)FUEK242$$bMaterie$$kM02$$lKondensierte Materie$$vKondensierte Materie$$x0
000028621 9141_ $$aNachtrag$$y2002
000028621 915__ $$0StatID:(DE-HGF)0010$$aJCR/ISI refereed
000028621 9201_ $$0I:(DE-Juel1)VDB43$$d31.12.2006$$gISG$$kISG-3$$lInstitut für Grenzflächen und Vakuumtechnologien$$x0
000028621 970__ $$aVDB:(DE-Juel1)22919
000028621 980__ $$aVDB
000028621 980__ $$aConvertedRecord
000028621 980__ $$ajournal
000028621 980__ $$aI:(DE-Juel1)PGI-3-20110106
000028621 980__ $$aUNRESTRICTED
000028621 981__ $$aI:(DE-Juel1)PGI-3-20110106