http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png
Patterning of sub 50nm structures for diffusion investigations in vertical double-gate MOSFETs
Moers, J.FZJ* ; Trellenkamp, S.FZJ* ; Kluth, S.FZJ* ; Kluth, P.FZJ* ; Alvarez, D.FZJ* ; Kretz, J.FZJ* ; Mantl, S.FZJ* ; Lüth, H.FZJ*
2004
2004Frühjahrstagung der Deutschen Physikalischen Gesellschaft
Seminar, RegensburgRegensburg, 8 Mar 20042004-03-08
Note: Record converted from VDB: 12.11.2012
Contributing Institute(s):
- Institut für Halbleiterschichten und Bauelemente (ISG-1)
Research Program(s):
- Materialien, Prozesse und Bauelemente für die Mikro- und Nanoelektronik (I01)
Appears in the scientific report
2004