Thin Films of ZrO2 for High-k Applications Employing Engineered Alkoxide- and Amide-Based MOCVD Precursors

Gast :: Anmelden JuSER
		Suchen		Absenden		Personalisieren Ihre Benachrichtigungen Ihre Körbe Ihre Suchanfragen		Hilfe

Thin Films of ZrO2 for High-k Applications Employing Engineered Alkoxide- and Amide-Based MOCVD Precursors - PreJuSER-59108

Kommentare (0) | Reviews (0)

Sie sind nicht berechtigt zu Kommentieren oder zu Rezensieren.

JuSER :: :: :: ::
Powered by v1.1.7 |
Verwaltet von

Impressum | Data Privacy Policy

Diese Seite gibt es auch in den folgenden Sprachen:
Deutsch English