Poster (Other) FZJ-2017-00690

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png
ALD metal oxide bilayers for memristive devices – effect of stack sequence and nanocrossbar structure on the switching behavior

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2016

International Memory Workshop, ParisParis, France, 15 May 2016 - 18 May 20162016-05-152016-05-18


Contributing Institute(s):
  1. Elektronische Materialien (PGI-7)
Research Program(s):
  1. 524 - Controlling Collective States (POF3-524) (POF3-524)

Appears in the scientific report 2016
Database coverage:
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The record appears in these collections:
Dokumenttypen > Präsentationen > Poster
Institutssammlungen > PGI > PGI-7
Workflowsammlungen > Öffentliche Einträge
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 Datensatz erzeugt am 2017-01-19, letzte Änderung am 2021-01-29



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