TY  - CONF
AU  - Brackmann, Varvara
AU  - Neul, Malte
AU  - Friedrich, Michael
AU  - Langheinrich, Wolfram
AU  - Simon, Maik
AU  - Muster, Pascal
AU  - Pregl, Sebastian
AU  - Demmler, Arne
AU  - Hanisch, Norbert
AU  - Lederer, Maximilian
AU  - Zimmermann, Katrin
AU  - Klos, Jan
AU  - Reichmann, Felix
AU  - Yamamoto, Yuji
AU  - Wislicenus, Marcus
AU  - Dahl, Claus
AU  - Schreiber, Lars R.
AU  - Bluhm, Hendrik
AU  - Lilienthal-Uhlig, Benjamin
A3  - Behringer, Uwe F.
A3  - Loeschner, Hans
A3  - Finders, Jo
TI  - Fabrication of gate electrodes for scalable quantum computing using CMOS industry compatible e-beam lithography and numerical simulation of the resulting quantum device
PB  - SPIE
M1  - FZJ-2024-01807
SP  - 1-10
PY  - 2023
T2  - 38th European Mask and Lithography Conference
CY  - 19 Jun 2023 - 21 Jun 2023, Dresden (Germany)
Y2  - 19 Jun 2023 - 21 Jun 2023
M2  - Dresden, Germany
LB  - PUB:(DE-HGF)8 ; PUB:(DE-HGF)7
DO  - DOI:10.1117/12.2675943
UR  - https://juser.fz-juelich.de/record/1023794
ER  -