TY  - JOUR
AU  - Fa, Yuan
AU  - Buttberg, Milan
AU  - Ran, Ke
AU  - Ahmad, Rana Walied
AU  - Braun, Dennis
AU  - Völkel, Lukas
AU  - Lee, Jimin
AU  - Cruces, Sofía
AU  - Macco, Bart
AU  - Canto, Bárbara
AU  - Lerch, Holger
AU  - Wahlbrink, Thorsten
AU  - Kalisch, Holger
AU  - Heuken, Michael
AU  - Vescan, Andrei
AU  - Mayer, Joachim
AU  - Wang, Zhenxing
AU  - Valov, Ilia
AU  - Menzel, Stephan
AU  - Lemme, Max C.
TI  - Intermediate Resistive State in Wafer‐Scale Vertical MoS 2 Memristors Through Lateral Silver Filament Growth for Artificial Synapse Applications
JO  - Advanced functional materials
VL  - 1
SN  - 1616-301X
CY  - Weinheim
PB  - Wiley-VCH
M1  - FZJ-2026-00366
SP  - e26682
PY  - 2026
LB  - PUB:(DE-HGF)16
DO  - DOI:10.1002/adfm.202526682
UR  - https://juser.fz-juelich.de/record/1050614
ER  -