TY  - JOUR
AU  - Mitrovic, I. Z.
AU  - Hall, S.
AU  - Sedghi, N.
AU  - Simutis, G.
AU  - Dhanak, V. R.
AU  - Bailey, P.
AU  - Noakes, T. C. Q.
AU  - Alexandrou, I.
AU  - Engstrom, O.
AU  - Lopes, J. M. J.
AU  - Schubert, J.
TI  - On the nature of the interfacial layer in ultra-thin TiN/LaLuO3 gate stacks
JO  - Journal of applied physics
VL  - 112
IS  - 4
CY  - Melville, NY
PB  - American Institute of Physics
M1  - FZJ-2012-00158
SP  - 044102 -
PY  - 2012
LB  - PUB:(DE-HGF)16
UR  - <Go to ISI:>//WOS:000308410100065
DO  - DOI:10.1063/1.4746790
UR  - https://juser.fz-juelich.de/record/127091
ER  -