Mask Projection assisted Pulsed Laser Induced Epitaxy of Silicon-Germanium-Tin patternsilicon-Germanium-Tin buffer layers through Pulsed Laser Induced Epitaxy

Stefanov, S.; Conde, J. C.; Buca, D.; Benedetti, A.; Werner, J.; Serra, C.; Chiussi, S.; Oehme, M.; Wirths, S.; Schulze, J.

Talk (non-conference) (Invited)

FZJ-2013-06506

Mask Projection assisted Pulsed Laser Induced Epitaxy of Silicon-Germanium-Tin patternsilicon-Germanium-Tin buffer layers through Pulsed Laser Induced Epitaxy

Stefanov, S. ; Serra, C. ; Benedetti, A. ; Conde, J. C. ; Werner, J. ; Oehme, M. ; Schulze, J. ; Wirths, S.FZJ* ; Buca, D.FZJ* ; Chiussi, S. (Corresponding author)

2013

JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration", JSPS: C2C, Frankfurt Oder, Germany, 24 Oct 2013 - 25 Oct 2013

Contributing Institute(s):

Halbleiter-Nanoelektronik (PGI-9)

Research Program(s):

421 - Frontiers of charge based Electronics (POF2-421) (POF2-421)

Appears in the scientific report 2013

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