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Contribution to a conference proceedings/Contribution to a book PreJuSER-15884
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20nm gate length Schottky MOSFETs with ultra thin NiSi/epitaxial NiSi2 source/drain

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2011

Proceedings of the 12th International Conference on Ultimate Integration on Silicon (ULIS). - 2011. - S. 38 - 41


Note: Record converted from VDB: 12.11.2012
Contributing Institute(s):
  1. Halbleiter-Nanoelektronik (PGI-9)
  2. Jülich-Aachen Research Alliance - Fundamentals of Future Information Technology (JARA-FIT)
  3. Bioelektronik (PGI-8)
Research Program(s):
  1. Grundlagen für zukünftige Informationstechnologien (P42)

Appears in the scientific report 2011
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The record appears in these collections:
Dokumenttypen > Präsentationen > Konferenzvorträge
JARA > JARA > JARA-JARA\-FIT
Institutssammlungen > PGI > PGI-9
Dokumenttypen > Bücher > Bücher
Workflowsammlungen > Öffentliche Einträge
Publikationsdatenbank
PGI-8
 Datensatz erzeugt am 2012-11-13, letzte Änderung am 2018-02-08
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