Contribution to a conference proceedings/Contribution to a book PreJuSER-40615

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png
Substrate engineering by hydrogen or helium implantation for epitaxial growth of lattice mismatched Si(1-x)Gex films on silicon

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2001

ISBN: 0-7803-6462-7

Proceedings of 2000 International Conference on Ion Implantation Technology. - 2001. - 0-7803-6462-7. - S. 326

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Note: Record converted from VDB: 12.11.2012

Contributing Institute(s):
  1. Institut für Halbleiterschichten und Bauelemente (ISG-1)
  2. Theorie III (IFF-TH-III)
  3. Mikrostrukturforschung (IFF-IMF)
  4. Institut für Medizin (IME)
Research Program(s):
  1. Ionentechnik (29.87.0)

Appears in the scientific report 2001
Notes: Proceedings
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INB-3

 Datensatz erzeugt am 2012-11-13, letzte Änderung am 2024-06-10



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