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Hauptseite > Publikationsdatenbank > Local increase in compressive strain (GaN) in gate recessed AlGaN/GaN MISHFET structures induced by an amorphous AlN dielectric layer > Zugang zum Volltext
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Local increase in compressive strain (GaN) in gate recessed AlGaN/GaN MISHFET structures induced by an amorphous AlN dielectric layer - FZJ-2021-03351
 
Main document Datei(en):
      Mikulics_2021_Semicond._Sci._Technol._36_095040
    Version 1
    Mikulics_2021_Semicond._Sci._Technol._36_095040.pdf [2.34 MB] 30 Aug 2021, 11:39 OpenAccess
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