Journal Article

FZJ-2023-01360

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png SET Kinetics of Ag/HfO2-Based Diffusive Memristors under Various Counter-Electrode Materials

Chekol, S. A.FZJ* ; Nacke, R. ; Aussen, S.FZJ* ; Hoffmann-Eifert, S. (Corresponding author)FZJ*

2023
MDPI Basel

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Please use a persistent id in citations: http://hdl.handle.net/2128/34051  doi:10.3390/mi14030571

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Contributing Institute(s):

1. Elektronische Materialien (PGI-7)
2. JARA-FIT (JARA-FIT)
3. JARA Institut Green IT (PGI-10)

Research Program(s):

1. 5233 - Memristive Materials and Devices (POF4-523) (POF4-523)
2. BMBF-16ME0399 - Verbundprojekt: Neuro-inspirierte Technologien der künstlichen Intelligenz für die Elektronik der Zukunft - NEUROTEC II - (BMBF-16ME0399) (BMBF-16ME0399)
3. BMBF-16ME0398K - Verbundprojekt: Neuro-inspirierte Technologien der künstlichen Intelligenz für die Elektronik der Zukunft - NEUROTEC II - (BMBF-16ME0398K) (BMBF-16ME0398K)
4. BMBF-03ZU1106AB - NeuroSys: "Memristor Crossbar Architekturen (Projekt A) - B" (BMBF-03ZU1106AB) (BMBF-03ZU1106AB)
5. DFG project 167917811 - SFB 917: Resistiv schaltende Chalkogenide für zukünftige Elektronikanwendungen: Struktur, Kinetik und Bauelementskalierung "Nanoswitches" (167917811) (167917811)

Appears in the scientific report 2023

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Database coverage:
; ; ; ; Article Processing Charges ; Clarivate Analytics Master Journal List ; Current Contents - Engineering, Computing and Technology ; DOAJ Seal ; Essential Science Indicators ; Fees ; IF < 5 ; JCR ; PubMed Central ; SCOPUS ; Science Citation Index Expanded ; Web of Science Core Collection

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