DFG project G:(GEPRIS)528378584

TRR 404 Zukunftsweisende Elektronik durch aktive Bauelemente in drei Dimensionen (Active-3D)

CoordinatorProfessor Dr.-Ing. Thomas Mikolajick
Grant period2025 -
Funding bodyDeutsche Forschungsgemeinschaft
 DFG
IdentifierG:(GEPRIS)528378584

Note: Die Halbleitertechnologie ist das Herzstück fast aller Produkte und Dienstleistungen unserer Gesellschaft. Möglich wurde dies durch immer kleinere, billigere und energieeffizientere Bauteile, der Transistoren, aus denen integrierte Schaltungen und Systeme bestehen. Die Verkleinerung der physischen Größe des Transistors führte zu niedrigeren Kosten pro Funktion, höherer Verarbeitungsgeschwindigkeit und verbesserter Energieeffizienz. In den letzten Jahren hat sich die tatsächliche Größe eines Transistors jedoch nicht mehr wesentlich verringert. Stattdessen wurde das Mooreschen Gesetzes durch die Eliminierung unbenutzter Bereiche unter Verwendung neuer Bauelementearchitekturen in einem Technologie-/Schaltungs-Co-Design realisiert. Mit neuartigen 3D-Transistoren werden Verbesserungen im Sinne des Mooreschen Gesetzes erwartet. Vor kurzem wurde die heterogene Systemintegration eingeführt, bei der mehrere Chips in einem Gehäuse kombiniert werden. Diese Entwicklungen vergrößern jedoch die Nutzfläche eines Chips, entweder durch Verringerung des unbenutzten Raums zwischen den Bauelementen und/oder durch Vergrößerung des Chips und gehen daher nicht auf das Hauptproblem ein: den Energieverbrauch. Der zunehmend verbreitete Einsatz von maschinellem Lernen und künstlicher Intelligenz geht mit einem exponentiellen Anstieg des Stromverbrauchs einher und die räumliche Trennung von Speicher und Logik auf der Fläche heutiger Chips führt zum sogenannten "von-Neumann-Engpass". Dieser TRR wird das Volumen über der Chipfläche nutzen, indem aktive Bauelemente in die Metallisierung (engl. Back-End of Line (BEOL)) integriert werden, die Logik- und Speicherfunktionen sowie aktive Verbindungen er-möglichen. Innovative Bauelemente werden auf Basis neuer Materialien entwickelt und in Schaltungen und Systeme integriert, die Verbesserungen in Bezug auf die Schlüsselindikatoren Leistung, Verarbeitungsgeschwindigkeit und Fläche versprechen. Unser Material/Technologie/Schaltkreis-Co-Design-Ansatz bietet nahezu unbegrenzte Möglichkeiten, Schaltkreisfunktionalitäten über das bisher der passiven Verdrahtung vorbehaltenen Volumen zu verteilen und so den Platz auf dem Chip voll auszunutzen. Die Realisierung einer solchen aktiven Verdrahtung (engl. Active BEOL) erfordert die Integration und Anpassung einer großen Anzahl verschiedener Materialien, hochentwickelte Fertigungstechnologien, ein tiefgreifendes Verständnis der Wechselwirkung zwischen Materialien, ihrer Verarbeitung und den daraus resultierenden Bauelementeigenschaften sowie eine völlig neue Sichtweise beim Schaltungs- und Systemdesign. Dafür arbeitet der TRR mit renommierten Experten aus Dresden und Aachen. Darüber hinaus bringen beide Standorte eine hochkarätige Infrastruktur für die Mikro- und Nanofabrikation mit. Mit dem TRR "Elektronik der nächsten Generation mit aktiven Bauelementen in drei Dimensionen (Active-3D)" wird Deutschland und Europa in der Mikroelektronikgrundlagenforschung gestärkt.
   

Recent Publications

All known publications ...
Download: BibTeX | EndNote XML,  Text | RIS | 

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article - Online First  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
The Influence of Residual Ion Drift During Programming of Chip‐Integrated Nanoscale HfO 2 ‐Based Memristive Devices
Advanced electronic materials 1, e00891 () [10.1002/aelm.202500891] DBCoverage  Download fulltext Files  Download fulltextFulltext BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Contribution to a conference proceedings  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
The Influence of Residual Ion Drift during Programming of Chip-Integrated Nanoscale HfO2-based Memristive Devices
International Conference on Neuromorphic Computing and Engineering, AachenAachen, Germany, 28 Jun 2026 - 2 Jul 20262026-06-282026-07-02 2 pp. () BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Contribution to a conference proceedings  ;
Physics-Based Compact Modeling of BiFeO3 Memristive Devices
International Conference on Neuromorphic Computing and Engineering, AachenAachen, Germany, 28 Jun 2026 - 2 Jul 20262026-06-282026-07-02 2 pp. () BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Conference Presentation (Other)  ;  ;  ;  ;  ;
Effect of Residual Ion Drift during Programming of CMOS-Integrated Nanoscale HfO2-based Memristive Devices
CIMTEC 2026, PerugiaPerugia, Italy, 21 Jun 2026 - 25 Jun 20262026-06-212026-06-25 BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Conference Presentation (Other)  ;  ;
Conduction mechanisms modeling in bilayer PCMO-based valence change memory devices
CIMTEC 2026, PerugiaPerugia, Italy, 21 Jun 2026 - 25 Jun 20262026-06-212026-06-25 BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Conference Presentation (Invited)
Advances in modelling of memristive devices
CIMTEC 2026, PerugiaPerugia, Italy, 21 Jun 2026 - 25 Jun 20262026-06-212026-06-25 BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;
Two Coexisting Pathways to Volatility in Valence‐Change Memory Devices
Advanced functional materials 36(77), e77515 () [10.1002/adfm.77515]  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
Band-engineering in area-dependent InGaZnO(IGZO)-based memristive devices
Frontiers in nanotechnology 8, 14 () [10.3389/fnano.2026.1870683] OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Contribution to a conference proceedings  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
Novel M-CNN design fostering gradual switching of InGaZnO(IGZO)-based memristive devices
2026 IEEE International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS), ShanghaiShanghai, China, 24 May 2026 - 28 May 20262026-05-242026-05-28 IEEE 5 pp. () [10.1109/ISCAS66217.2026.11562042]  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;  ;  ;  ;
A Flexible and Energy‐Efficient Compute‐in‐Memory Accelerator for Kolmogorov–Arnold Networks
Advanced intelligent systems 8(5), e202501220 () [10.1002/aisy.202501220] OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

All known publications ...
Download: BibTeX | EndNote XML,  Text | RIS | 


 Record created 2025-02-08, last modified 2026-10-05



Rate this document:

Rate this document:
1
2
3
 
(Not yet reviewed)